CVD金刚石具有极高的硬度、耐磨性和低的摩擦系数，使它在作为新型工具材料在机械加工行业中得到广泛的应用。金刚石涂层工具成为现代的数控和加工中心机床中重要加工刀具。
CVD金刚石具有极高的硬度、耐磨性和低的摩擦系数，使它在作为新型工具材料在机械加工行业中得到广泛的应用。金刚石涂层工具成为现代的数控和加工中心机床中重要加工刀具。
高硬度和高弹性模量使得它成为具有最高声速的材料。它将能够制作频率响应最高极的（高频3-5GHz）在未来卫星通讯和移动通信中的声表面波器件以及频响可达到60KHz以上的高音扬声器及声传感器。
金刚石是自然界最好的导热材料，它的热导率比最好金属导热材料（常温下是铜的5倍）使之成为电子器件极为理想的散热器材料。
它的高绝缘电阻及与众多半导体材料有较好匹配的热膨胀系数可以做为高功率密度电子器件，如大功率半导体器件、微波器件和大规模集成电路最好的散热片。
CVD金刚石热沉使光纤通讯及激光技术中最重要的器件、激光二极管在数千安培/平方厘米的强电流密度条件下工作。
信息领域中的固体微波器件、三维固体电路(MCM)及高速计算机芯片的散热片将是最高热导率的金刚石的未来的重要市场。
硅-金刚石-硅基片亦可作为GaN涂层的基体材料，纳米金刚石涂层也广泛应用于微机电系统（MEMS）。根据材料学家的预测，金刚石半导体器件的问世将是电子技术的一场革命，高温金刚石半导体器件工作温度可达到600℃,而现有的硅器件为150℃，最好的砷化镓的工作温度不超过250℃。
（在12英寸的硅片上做25微米厚的金刚石涂层，可以为该材料提供优良的散热性能）高质量CVD金刚石金刚石具有优异的光学性能。从X射线、紫外光、可见光、红外光直至毫米的微波波段的高透过率可用作在恶劣环境中使用的光学窗口。如各种光制导的导弹头罩,特别是高马赫数（M4.5）导弹头罩和多色红外探测器窗口。它的卓越的透X光特性可成为未来微电子学器件制备的亚微米级光刻技术的理想材料。
在高能物理学和医学的金刚石射线探测器，是人们十分感兴趣的的应用领域。金刚石是高能粒子束流、放射线和超强磁场环境中使用的探测器最理想的候选材料。
CVD金刚石最高的热导率，最小的晶格常数，高的熔点，它的高电阻特性，大的禁带宽度以及低介电常数和高电子-空穴迁移率等综合特性，使它具有优良的抗辐射性能和成为制作性能优异的高能粒子探测器材料，它们将广泛的应用于核工业、航天、医疗、信息领域。目前CVD金刚石探测器广泛用于医学领域，特别是已成为人类用放射线技术治疗恶性肿瘤重要的工具。
CVD金刚石具有的极好的耐化学腐蚀和B-掺杂特性，因此也是在恶劣环境下应用的各种传感器的优异材料。例如，B-掺杂的CVD金刚石电极具有低背景电流、低偶极层电容和宽电位区域（窗口）特点，使它在环保领域的污水处理，在恶劣水质条件下的宽范围重金属离子检测和污水净化处理的电化学电极材料有广泛的应用。
(高生物适应性和极好的耐腐蚀性使金刚石成为电极涂层的一个很好的选择。在沉积工艺中对金刚石进行精确地元素掺杂得到适当的导电率可成为污水处理电极的最佳选择）
利用金刚石高温抗幅射性质可用作在高温强幅射环境中工作的半导体器件及各种特性的传感器等。它的电负性和冷阴极发光特性已有可能获得多色彩低能耗的显示屏和实现大面积平板显示器应用。
我们的工作是将碳源气体引入真空室，利用化学气相沉积（CVD）技术，在2000℃以上的高温下将气体热解并排列重组成具有SP3结构的多晶金刚石；在切削工具、模具、密封环等多种工件的表面缓慢生长，形成厚度达几十微米的连续涂层。
金刚石涂层与衬底需要有一定的物理及化学结合作用，使得金刚石可以牢固的附着在被涂层工件表面，因此，涂层衬底的选择和预处理十分重要。
我们可以在适合牌号的硬质合金、碳化硅陶瓷、氮化硅陶瓷、金属钨、金属钼等多种材料上沉积金刚石涂层材料，我们会根据多年积累的经验为您提供最佳的解决方案。
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